通过使用DOE透镜可对入射光的方向、扩散角度、聚光点的距离和形状进行控制。本公司针对不同用途进行不同的DOE镜片的设计、模拟实验、试生产、量产。
新一代DNA测序仪的消耗性芯片可以用纳米压印技术制造。 Scivax一直在开发微孔结构的表面化学控制工艺。
对于构成DFB的Grating有很高的精度(±0,03nm)要求,我们的纳米压印技术可实现极高的精度,可做到在化合物半导体基板上进行高精度Grating成型。
通过精密控制10埃米以下的空间,可使拉曼光谱增强至108倍。本公司通过纳米压印技术,可制造出再现性高且稳定的SERS芯片。
微透镜阵列(Micro Lens Array):目前有各种关于把MLA 运用于TOF Diffuser、指纹传感器为首的各种光学仪器的开发与探讨。
用于3D传感器的structured light中会使用到DOE。该DOE的纹路成型中广泛运用了纳米压印技术。
偏振片广泛用于液晶显示、投影仪、光学仪器等。本公司通过使用纳米压印技术,可制作出大面积高纵横比的无机偏振片。金属材质可使用Al、TiO2等。另有现成样品可供您评估。...
通过本公司开发的曲面纳米压印技术,实现了对透镜表面的超精细加工。能做到在φ20mm~φ100mm的镜片表面进行无反射构造等精细构造的成型。
通过对电介质进行纳米加工后与偏光片组合,可制作出对反射和穿透进行控制、改善广角图像的对比度的构造形相位差片。