所谓的压印技术，就是利用具有细微凹凸结构的模具，将其压制在涂有树脂的各种基材（Si、玻璃、树脂、各种化合物半导体等）上，实现图案结构的转移。纳米压印是一种廉价的量产工艺技术，由于可以用半导体光刻技术加工的基片作为模具，用以形成（复制）与半导体工艺相同精细水平的纳米级微结构，以实现廉价批量化生产。另外，利用纳米压印技术可以大幅降低制造成本，形成微米至亚毫米范围内的光学透镜，用于各种新型传感器中。尤其是在快速发展的移动应用领域，如光学传感器、汽车工业和生物芯片等，都将被广泛采用。
纳米压印技术
可在各种材质及形状的基板上成型。
◯纹样规格：几十 nm~几百 μm
◯使用 G5(1,100mmX1,300m）大面积模板，可实现一次性转印
◯基板：各种晶圆（硅、刚玉、化合物半导体、其他）、2 英寸~12 英寸玻璃基板、
玻璃镜片、金属基板、树脂膜·片、有波纹的 InP 基板，均可实现均一的高精度成型。
◯间距精度±0.03nm◯可热辅助◯宽高比 3（量产级别）
大面积成型事例
我司的技术主要集中体现在纳米压印技术上。
通过以下技术要素的融合，首次实现了在
大面积玻璃基板的一次性纳米压印。
G5(1,100mmX1,300mm）玻璃基板上的成型事例
成型技术
除了硅基板之外，还可进行从化合物半导体基板乃至大型玻璃基板的各种基板对象的一次性纳米压印成型。
①均压成型及数
②追随不平整表面的成型技术
③残膜控制技术
④自动脱模技术
⑤减少气泡的技术
⑥减少颗粒的技术
⑦对位技术
・ 晶片（φ2″～φ12″）
· 玻璃（最大 1,100mmX1,300mm）
・ 玻璃镜头
・ 金属基板
・ 各种树脂类薄膜、基板
