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纳米压印技术

可在各种材质及形状的基板上成型。
◯纹样规格:几十 nm~几百 μm
◯使用 G5(1,100mmX1,300m)大面积模板,可实现一次性转印
◯基板:各种晶圆(硅、刚玉、化合物半导体、其他)、2 英寸~12 英寸玻璃基板、玻璃镜片、金属基板、树脂膜·片、有波纹的 InP 基板,均可实现均一的高精度成型。
◯间距精度±0.03nm◯可热辅助◯宽高比 3(量产级别)

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大面积成型事例

我司的技术主要集中体现在纳米压印技术上。
通过以下技术要素的融合,首次实现了在
大面积玻璃基板的一次性纳米压印。

G5(1,100mmX1,300mm)玻璃基板上的成型事例

成型技术

除了硅基板之外,还可进行从化合物半导体基板乃至大型玻璃基板的各种基板对象的一次性纳米压印成型。

①均压成型及数
②追随不平整表面的成型技术
③残膜控制技术
④自动脱模技术
⑤减少气泡的技术
⑥减少颗粒的技术
⑦对位技术


・ 晶片(φ2″~φ12″)
· 玻璃(最大 1,100mmX1,300mm)
・ 玻璃镜头
・ 金属基板
・ 各种树脂类薄膜、基板

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